Équipement pour les semiconducteurs

L'implantation ionique est une technique utilisée dans le semi-conducteur pour modifier localement la composition et les propriétés physiques d'un substrat, notamment lors de l'introduction de dopants tels le bore, phosphore, arsenic...
Les électrodes, écrans de protection en graphite de ces machines sont soumis à une forte érosion à cause du bombardement ionique.

• Le graphite ultra pur de Mersen à grain fin et forte densité résiste très bien à l'érosion.
• Mersen a en outre développé une imprégnation particulière dit "VCI", pour améliorer encore la résistance de ces pièces, tout en réduisant l'émission de particules.

Mersen répond à ces exigences en proposant des équipements en graphite ultra pur revêtus avec du carbure de silicium.
Ces solutions dédiées sont le fruit de notre expertise sur les matériaux et l'usinage de précision :

• Des nuances de graphite ultra pur contrôlées par ETV-ICP
• La compatibilité (CTE) de nos nuances de graphite avec le carbure de silicium garantit l'intégrité du revêtement protecteur sur le long terme.
• Notre usinage de précision soumis à un contrôle tridimensionnel, pour le respect du design de pièces très complexes.